Mục tiêu phún xạ titan với độ tinh khiết cao

Các mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết caolà các nguồn phún xạ tạo thành các màng mỏng chức năng khác nhau trên chất nền bằng phún xạ magnetron, mạ ion đa hồ quang hoặc các loại hệ thống phủ khác trong các điều kiện quy trình thích hợp. Nói một cách đơn giản, vật liệu mục tiêu là vật liệu mục tiêu bị bắn phá bởi các hạt tích điện tốc độ cao.

Nó được sử dụng trong vũ khí laser năng lượng cao. Khi các tia laser có mật độ công suất khác nhau, các dạng sóng đầu ra khác nhau và các bước sóng khác nhau tương tác với các mục tiêu khác nhau, chúng sẽ tạo ra các tiêu diệt và sát thương khác nhau. hiệu ứng. Ví dụ: lớp phủ phún xạ magnetron bay hơi là làm nóng lớp phủ bay hơi, màng nhôm, v.v. Bằng cách thay thế các vật liệu mục tiêu khác nhau (chẳng hạn như mục tiêu nhôm, đồng, thép không gỉ, titan, niken, v.v.), có thể thu được các hệ thống phim khác nhau (chẳng hạn như màng hợp kim siêu cứng, chống mài mòn, chống ăn mòn, v.v.).

Thông số

Đặc trưng

1. Trọng lượng nhẹ

2. Sức mạnh cụ thể cao

3. Chống ăn mòn

4. Khả năng chịu nhiệt độ cao và thấp

Các ứng dụng

★ Đóng tàu ★ Mạ điện phân ★ Hàng không vũ trụ ★ Công nghiệp hóa chất ★ Thiết bị y tế

Thông tin chi tiết

Được làm bằng vật liệu thô chất lượng cao, chống mài mòn và chống ăn mòn, sử dụng lâu dài

Không có vết nứt bong tróc trên bề mặt, không có vết dầu, bề mặt nhẵn và sạch

Thông số kỹ thuật hoàn chỉnh, cắt tùy ý, hỗ trợ tùy biến không theo tiêu chuẩn

Độ tinh khiết của vật liệu đích có ảnh hưởng lớn đến hiệu suất của phim. Độ tinh khiết là một trong những chỉ số hiệu suất mục tiêu.

Sự tinh khiết

Độ tinh khiết của mục tiêu là một trong những chỉ số hiệu suất chính của mục tiêu vì độ tinh khiết của mục tiêu ảnh hưởng rất nhiều đến hiệu suất của phim. Tuy nhiên, trong các ứng dụng thực tế, các yêu cầu về độ tinh khiết của vật liệu đích là không giống nhau. Ví dụ, với sự phát triển nhanh chóng của ngành công nghiệp vi điện tử. Kích thước của wafer silicon đã được mở rộng từ 6 ", 8" thành 12 ", chiều rộng dây được giảm từ 0. 5 um xuống 0. 25 um, 0. 18 um và 0. 13 um. Trước đây, độ tinh khiết của mục tiêu là 99,995 phần trăm.

Hàm lượng tạp chất

Nguồn chính của màng lắng đọng là oxy và độ ẩm của chất rắn mục tiêu và các lỗ rỗng. Các mục tiêu cho các ứng dụng khác nhau có các yêu cầu khác nhau đối với các mức tạp chất khác nhau. Ví dụ, các chỉ tiêu của nhôm nguyên chất và hợp kim nhôm được sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn có các yêu cầu đặc biệt về hàm lượng kim loại kiềm và hàm lượng nguyên tố phóng xạ.

Tỉ trọng

Để giảm các lỗ rỗng của chất rắn mục tiêu và cải thiện hiệu suất của các màng bị bắn tung tóe, mục tiêu thường cần phải dày đặc hơn. Mật độ mục tiêu không chỉ ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ mà còn ảnh hưởng đến các đặc tính điện và quang học của màng. Mật độ mục tiêu càng cao, hiệu suất phim càng tốt. Ngoài ra, khi mật độ và cường độ mục tiêu được nâng lên, mục tiêu có thể chịu được ứng suất nhiệt trong quá trình phún xạ. Mật độ là một trong những chỉ số hiệu suất mục tiêu.

Kích thước hạt và sự phân bố kích thước

Thông thường mục tiêu là đa tinh thể và kích thước hạt có thể theo thứ tự từ micromet đến milimet. Trong trường hợp của cùng một mục tiêu, tốc độ phún xạ của mục tiêu hạt mịn nhanh hơn tốc độ phún xạ của mục tiêu hạt thô, trong khi sự lắng đọng phún xạ của mục tiêu cỡ hạt nhỏ hơn (phân bố đồng đều) có phân bố độ dày đồng đều (đồng đều) . Phân bổ.

Nếu bạn quan tâm đếncác mục tiêu phún xạ titan với độ tinh khiết cao, Xin cứ thoải mái liên lạc với chúng tôi:

E-mail:zhangjixia@bjygti.com

Trang chủ:http://www.toptitech.com

Chú phổ biến: mục tiêu phún xạ titan với độ tinh khiết cao, Trung Quốc, nhà cung cấp, nhà sản xuất, tùy chỉnh, cách sử dụng, bảng giá, để bán, trong kho, mẫu miễn phí, vật liệu xốp